二手 KLA / TENCOR 2135 #9383823 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9383823
晶圆大小: 2" -8"
优质的: 1997
Wafer inspection system, 2" -8"
Updated from 2115
Cassette to cassette
CE Marked
No missing parts
Manuals
Power requirements: 208 V, 10.0 A - 30.0 A (2), 3 Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
KLA/TENCOR 2135掩模和晶片检测设备是一种通用的自动化系统,旨在检测有图桉的掩模和半导体晶片。该单元包含明场和暗场斜光检查方法,包括明场明暗差分检查、暗场明暗差分和暗场临界尺寸。该机器由两个相互依赖的组件组成:差分模式观测站和晶圆/掩模缺陷审查站。微分模式天文台(DMO)结合了亮场/暗场成像工具和晶圆/掩模级,以支持多个线性和斜向激光照明角度。它配备了能够检测和量化有限缺陷的高分辨率相机和成像资产。晶片/掩模缺陷审查站具有电动xy级,能够扫描晶片和掩模的缺陷。该站包含多个光源,以各种入射角照亮晶片/掩模,包括亮场和暗场照明。这样就可以在小型和大型设备上执行高分辨率、大视野缺陷检查,最小的特征尺寸可检测到5nm。KLA 2135设计用于调查各种类型的晶片/掩模缺陷和故障,包括电气短路、光刻开口、光刻缺陷、薄膜开裂和图案错位。它还能够检测248mm至500 mm晶片和4英寸至8英寸的口罩。TENCOR 2135带有基于Web的分析和报告工具,使操作员能够实时查看模型的检查过程。这消除了手动日志记录的需要,并允许对生成的数据进行快速轻松的分析。2135掩模和晶片检测设备是自动化缺陷检测和故障分析的一个非常宝贵和通用的系统。它是现代生产的重要工具,有助于提高产量和产品质量。
还没有评论