二手 KLA / TENCOR 2138 #9115814 待售

KLA/TENCOR 2138 Mask&Wafer Inspection Equipment是一种全面、全自动的解决方桉，在生产过程中提供晶圆和其他半导体器件上工艺模式的高速检测。该系统旨在帮助半导体制造商通过优化其整体过程控制来减少缺陷并提高生产率。此单元可帮助检测掩模和晶片表面的缺陷,检测精度无与伦比。它利用先进的图像处理来识别细微的特征，而不受噪声和非均匀照明的影响。此外，它还可以检测边缘光刻误差，如缺少接触孔，从而提高工艺产量。利用快速的采集速度,它可以使用高通量摄像机一次捕获几个样本的图像,从而实现更快的晶圆处理。这台机器还包括一个符合人体工程学的高效操作员界面，简化了工作流管理。KLA 2138工具提供了多种改进晶圆和掩码管理的功能。它是一个多站点工作站,用户可以在其中登录远程位置、选择部件和分析图像。它包括用于测量晶圆尺寸的行业标准晶体管级计量特征、工艺关键特征之间的距离以及其他相关参数。它还可以测量未阵列化的表面粗糙度。资产的自动缺陷检查模式设计用于实时检查晶片，放大倍数可达3倍。它可以利用先进的算法识别晶片边缘的芯片和缺陷。为帮助确保高精度,该模型提供了不同的视觉系统,可提供优化的模式检查和同时测量缺陷位置。TENCOR 2138 Mask&Wafer Inspection Equipment还提供文档和记录功能。每个测量会话都存储在其数据库中,并且每个步骤都与所有参数一起记录。生成的报告包含所检查的每个晶片或掩模的详细信息。这有助于提供不同模式级别缺陷分布的可靠统计信息。总而言之,2138 Mask&Wafer Inspection System具有自动缺陷识别和报告功能,是帮助半导体制造商缩短工艺时间和提高缺陷产量的完美解决方桉。凭借其多种特性和功能,它可以有效地确保满足各种生产和工艺要求的最高质量。