二手 KLA / TENCOR 2139 #9227709 待售

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製造商
KLA / TENCOR
模型
2139
ID: 9227709
优质的: 2000
Wafer inspection system 2000 vintage.
KLA/TENCOR 2139是一款下一代的掩模及晶圆检测设备,旨在满足当今最先进的半导体工艺几何形状的高速、高精度、高容量要求。KLA 2139具有四维成像工作站,能够以极高的精确度和分辨率生成清晰的3D图像,以及用于精确检测潜在缺陷的高级模式识别软件。它能够在一个图像中同时对多达四个单独的检查区进行检查,并配备了增强的用户界面,旨在使数据分析和口译高效准确。利用基于Python的优化图像处理流水线,系统利用精确的次像素数据捕获来捕获单个缺陷和碎片的微观细节。TENCOR 2139的成像元件包括明场和暗场探测器阵列,以及为快速数据采集和成像而设计的优化光学单元。它还包括一个热电冷却的EMCCD,以确保热噪声最小化和亮度最大化的高质量成像。除了提供高品质的3D成像外,该机还被设计为快速、可靠、易于使用。它具有高精度的阶段,使工具能够快速准确地进行多次检查。它还配备了多向孔径,能够对超小颗粒进行检测,并且可以与自动缺陷检验站集成,进一步增强其处理能力。除了成像能力外,2139还设计用于处理广泛的检查任务。它专有的全方位匹配算法使它能够快速准确地比较特征的模式,并将它们集中在检查面罩内。资产还通过智能算法支持缺陷分类,能够以不同的置信度实时检测缺陷。最后,它能够执行层厚度测量以及分析特征和缺陷信息,以生成一组通用的报告和分析。KLA/TENCOR 2139通过其高分辨率成像、先进的模式识别算法和快速的处理速度相结合,成为半导体行业的掩模晶圆检测标准。凭借其业界领先的性能和易用性,它是高端、经济高效的半导体生产的理想选择。
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