二手 KLA / TENCOR 2139 #9230684 待售
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ID: 9230684
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Wafer inspection system, 8"
Open cassette
User interface
Monitor with PC
Stages:
X Stage bracket
Theta stage
Image computer:
IMC0
IMC1
IMC2
IMC3
Power supplies:
+12 VDC E-Drawer
24 VDC E-Drawer
-24 VDC E-Drawer
+48 VDC E-Drawer
+65 VDC E-Drawer
2000 vintage.
KLA/TENCOR 2139设备是一种用于检测光掩模制造上下游晶片工艺缺陷的掩模和晶片检测解决方桉。该系统提供了成像端口、掩码对准器、先进的光学和照明系统以及复杂的算法的组合,以检测光掩码上的细微但关键的缺陷。KLA 2139上的成像端口通过检测光反射的差异并向用户显示来提供光掩码的高分辨率成像。它有一个全画幅的检查，确保了整个检查区域的完全覆盖，可以检测到小到0.25微米的特征。其光学和照明系统包括先进的光束偏转、直接/可变聚焦、倾斜照明和反向散射/透射，以精确捕获微妙的缺陷。另一方面,掩模对齐器确保掩模和晶片之间的精确对齐。TENCOR 2139具有先进的软件平台,为掩码和晶圆检查提供专门的功能。其先进的算法使得能够自动检查光掩码上的缺陷，并能够从错误的指示中对纯缺陷进行有效的分类。该单元包括一个智能自动对焦机，自动收集每一个现场检查的焦点位置。它还具有上下文相关命令,这些命令允许直观操作并提高生产效率。总体而言,2139工具是检测光掩模工艺缺陷的理想解决方桉,为检查掩模和晶片提供了经济高效的解决方桉。它结合了高分辨率成像、先进的光学和照明系统、可靠的掩模对准以及精密的算法，以确保对光掩模过程进行准确、精确和可靠的检查。
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