二手 KLA / TENCOR 2139 #9351630 待售

KLA/TENCOR 2139面膜和晶片检测设备是一种独特的面膜和晶片产量及工艺控制解决方桉。KLA 2139系统提供高度精确的自动模式识别,从而实现快速和可重复的分析。该单元包括一个光刻成像和分析机，一个掩模对准晶圆扫描仪光束和一个综合检测工具。光刻成像资产有几种先进的光学和照明系统，即使在极小的区域也能检测到小的缺陷。掩模对齐器能够检测细微结构和亚微米模式变化，如线缘粗糙度（LER）。晶片扫描仪波束创建了一个高分辨率的掩模或晶片结构图像，然后进行分析以检测缺陷。该模型的算法可以检测到0.2微米到10微米的缺陷，并提供无与伦比的检测精度和可重复性。该设备的图像处理技术实现了精确的缺陷检测，允许精确的掩模和晶圆检查。该系统还提供了多功能性,用于检测从单个和多个模式到几何模式以及过程生成的缺陷的各种变化。此外，该装置能够通过多种方式对缺陷进行表征和分析，包括在暴露前和暴露后的情况下检查空白。它还允许灵活地进行图像分析,并包括一套旨在满足独特用户需求的分析工具。最后,机器易于使用的GUI允许轻松配置、数据处理和高级分析。作为其全面报告和日志记录功能的一部分,它提供了许多指标,包括缺陷大小、位置、类型、数量和原因。此外，它还可以提供3D-surface所检查的掩模或晶片的显示，并生成基于扇区的报告。总体而言,TENCOR 2139提供了无与伦比的掩模和晶圆检测工具,具有高效且可重复的缺陷检测功能。它还提供集成的缺陷分析和报告解决方桉,以满足任何用户的需求。它是一个独特的解决方桉,用于确保产量和过程控制,从而使用户能够保证各种设备的性能。