二手 KLA / TENCOR 219e #293651164 待售

製造商
KLA / TENCOR
模型
219e
ID: 293651164
Mask inspection system.
KLA/TENCOR 219E是一种最先进的掩模和晶圆检测设备,旨在为半导体封装的所有方面提供业界领先的高精度成像能力。它具有巨大的、业界领先的图像传感器阵列,分辨率高达1600万像素。这使系统能够捕获极其详细的图像,这些图像是检查掩模和晶片上的精确特征所必需的。除了广泛的成像功能外,KLA 219E还提供了广泛的高级图像处理算法,以帮助确保最高的结果准确性。它可以检测和测试晶片上的关键缺陷,确保高达9 σ或更高的产率。它还附带各种其他功能,如Bokeh、ANNe和LDS,为高效制造提供了一系列全面的数据洞察。TENCOR 219 E设计用于各种晶片,从常规晶片到先进的3维(3D)结构。它配备了可配置的视场和扫描大小,因此单个单元可以容纳同一晶圆上的不同几何形状。机器还附带了针对各种重要测试任务的定制解决方桉,如粒子检查和图像注释。KLA 219 E设计易于使用和维护。它配备了一个带电缆的键盘和鼠标,以及一个用户友好的界面,提供简单的控制工具。它还具有自动设置和校准功能,可节省时间并最大程度地降低维护成本。总体而言,KLA/TENCOR 219 E掩模和晶圆检测资产是半导体封装检测的极其强大可靠的工具。它提供业界领先的图像功能,以及大量的高级图像处理算法和可定制的测试参数。TENCOR 219E具有易于使用的界面和自动化设置,是半导体检测和生产的理想选择。
还没有评论