二手 KLA / TENCOR 2350 #9136721 待售
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已售出
ID: 9136721
High resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual FIMS EFEM, 8"
GEM SECS and HSMS
Signal light tower
XENON Lamp: 150 W
Wave length illumination: 370 ~ 720 nm
Wave length band: Visible, UV, i-line
Pixel size: 160 ~ 250 nm
MM2S Board
User Interface (Ul):
Computer monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
Inspection Station (IS):
Granite suspension
Optics plate
Air filter
Stage cooling
Wafer handler (EFEM)
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board with valve and AF LED board
Y1 Flex board
(2) FVPA Boards
Robot controller
Fan Filter Unit (FFU)
Ul and IS Cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS TO UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350掩模和晶圆检测设备是一个高性能检测平台，提供准确、可重复、自动化的多层介电和计量测量。该系统利用针对光刻市场特定需求开发的专用光学器件，包括二极管、OCT和线性可变衍射光栅（LVDP）。KLA 2350能够测量光栅和晶片上电介质的反射率和散射。它具有355纳米至730纳米的可调波长范围，适合在广泛的材料和应用中进行检测。它具有很高的动态范围和出色的灵敏度，能够提供分辨率低至0.4 µm的图像。检测单元还包括晶圆部分缺陷分析、标线拉透分析、介电剖面测量等几种专门的编程算法。它与强大的图像处理和数据分析功能集成在一起，包括Mura检测、自动对齐和图像缝合。这台机器包括一个直观的图形用户界面，允许用户轻松访问、配置和控制仪器。它还提供与外部数据库的连接,使用户可以轻松地将流程数据链接到质量控制程序。TENCOR 2350旨在提供一致的结果，减少变异性，减少检测高级光掩模和晶圆工艺缺陷的时间。利用先进的图像处理功能,该工具能够快速实时检测和分析缺陷。此外，它的综合计量和自动化分析软件能够在一个步骤中实现精确、可重复的介电表征。总体而言,2350检查资产是半导体行业可靠性和性能控制的高效、经济高效的解决方桉。其先进的技术，如激光衍射、OCT和二极管，提供了无与伦比的精度和重复性。凭借其集成的软件和直观的用户界面，它是市场上最高效可靠的系统之一。
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