二手 KLA / TENCOR 2350 #9184410 待售

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KLA / TENCOR 2350
已售出
製造商
KLA / TENCOR
模型
2350
ID: 9184410
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
Imaging inspection system, 8" Type: SMIF Robot: Dual SMIF EFEM, 8" GEM SECS and HSMS Signal light tower XENON Lamp: 150 W Wave length illumination: 370 ~ 720 nm Wave length band: Visible, UV, I-line Pixel size: 160 ~ 250 nm Stage: X, Y, Theta (48) IMC Boards MM2M and MM2S Missing parts: UI Main power cable SOC Solenoid 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350是专为半导体工业设计的最先进的掩模和晶圆检测设备。该系统专门设计用于检查可能影响芯片或晶片性能的污染物、缺陷和其他缺陷。该单元采用先进的光学和数字成像技术相结合,检查掩模或晶片的正面和背面,使其成为最全面的检验系统之一。KLA 2350利用四个摄像头实现精确的3-D成像和精确的缺陷定位。机器使用四波长照明--三个亮场,一个暗场--用于各种检查模式,允许精确检测颗粒、划痕、裂缝、凹坑和其他不规则形成的颗粒等缺陷。该工具的高端光学器件也使其非常适合于对湿粒子的精确检测。TENCOR 2350具有广泛的功能,以确保方便和精确的检查。这些功能包括蒙版和晶片的自动加载和卸载、高级模式失真检测、多个照明级别以及轻型控制资产。该模型还包括用于缺陷分析和报告的高级软件,使用户能够快速识别和排除任何问题。2350还提供了防止正在处理的污染物(如颗粒物和液体污染物)的保护。其内置的避免污染设备屏蔽了任何来自检查区域的进入粒子,甚至可以检测到已经进入系统的粒子。这样可以确保晶片和样品材料的安全。总体而言,KLA/TENCOR 2350是一个高度先进、灵活的掩模和晶圆检测单元。其优越的光学、数字成像系统和先进的软件使其成为精确定位和解决污染和缺陷的理想之选。机器的详细实时报告和高级成像工具使用户能够达到最高水平的产品质量。
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