二手 KLA / TENCOR 2350 #9270104 待售
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ID: 9270104
晶圆大小: 8"-12"
优质的: 2001
High-resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual open EFEM, 12"
GEM SECS and HSMS
Signal light towers: (4) Colors (R, Y, G, B)
Xenon lamp: 150 W
Wavelength illumination: 370~720 nm
Wavelength band: Visible, UV, I-line
Pixel size: 160~250 nm
User interface:
Monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
(44) IMC Boards
Does not include MM2S board
Inspection station:
Granite suspension: Power
Blower stage
Pneumatics optics plate
Air filter
Wafer handler (EFEM):
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board
LP2 Cover
Robot controller
UI and IS connecting cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS to UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350是一种掩模和晶片检测设备，设计用于识别用于生产先进集成电路的半导体晶片和掩模中的缺陷。该系统利用照明和查看功能、机器视觉技术以及图像和数据处理的组合来检测和分析可能难以检测的缺陷。KLA 2350配备了包括光源、500万像素CMOS图像传感器、成像光学器件以及专门的反射和透射光学器件在内的先进光学元件阵列。该单元的光源在可见和近红外（NIR）波长中使用6个窄带光谱切片，为不透明和半透明图样的成像提供高动态范围和对比度。此外,机器的成像光学器件还提供了诸如磁场曲率和失真、锐度、光照和聚焦等校正功能,以提高刀具性能。TENCOR 2350的CMOS图像传感器每秒可扫描多达10个晶圆,分辨率高达500 nm,确保高质量的图像捕获。该资产还提供特定于波长的缺陷检测，利用不同的照明和观察功能来识别具有特定波长光的缺陷。为了便于数据分析,2350具有强大的图像和数据处理模型。该设备能够测量、分析和分类掩模和晶片缺陷。它采用高级算法进行设计,以确保最高质量的图像和缺陷识别,即使在大批量生产环境中也是如此。此外，该系统还配备了自动显微镜和图像分析软件等综合检查工具，可实现极其精确和自动化的缺陷识别。KLA/TENCOR 2350是一种高度通用可靠的掩模和晶圆检测装置。凭借先进的光学技术和强大的图像处理和分析能力，它已成为成功生产先进半导体IC的重要工具。
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