二手 KLA / TENCOR 2350 #9270188 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9270188
晶圆大小: 8"-12"
优质的: 2001
High-resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual open EFEM, 8"
GEM SECS and HSMS
Signal light towers: (4) Colors (R, Y, G, B)
Xenon lamp: 150 W
Wavelength illumination: 370~720 nm
Wavelength band: Visible, UV, I-line
Pixel size: 160~250 nm
User interface:
Monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
(48) IMC Boards
Does not include MM2S Board
Inspection station:
Granite suspension: Power
Cooling stage
Pneumatics optics plate
Air filter
Wafer handler (EFEM):
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Lower monitor
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 5 V
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board with valve
AF LED 1 Board
LP2 Cover
Y1 Flex board
(2) FVPA Boards
Robot controller
Fan Filter Unit (FFU)
UI and IS connecting cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS to UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350是一款高度先进的掩模和晶圆检测设备，专为半导体器件制造而设计。它结合了成像、可视化和自动表征缺陷的几种技术和技术，以便快速定位和识别半导体器件表面最小的污染物颗粒和损坏。KLA 2350光学系统使用双光源相干照明和高动态范围成像，以减少手动检查的需要，创造表面和特征的优化视觉效果。它还能够自动适应各种晶圆基板，允许它捕获高分辨率图像，无论方向和大小。此外，它的干涉显微镜成像单元能够4X放大高度详细的数据捕获和分析。KLA专有的Multi-Command Vector Processor （MCVP）用于实时评估捕获的图像并搜索本地化的缺陷,然后由机器进行分段和识别。这种直接局部缺陷检测的原理减小了整体数据大小，使得相对于传统的基于SEM/EDS的工具，可以更快、更准确地进行分析。它还与大量的样本类型兼容，使得它进一步适用于各种各样的应用。此外,TENCOR污染区域映射（CAM）功能与TENCOR 2350分析功能完全集成,用于检测和勘测晶圆上的总缺陷,为用户提供有意义的信息,减少检查时间和成本。该资产也符合FIPS标准,因此,根据政府标准,所有数据都受到保护,免受未经授权的访问。总体而言,2350是一种智能、高性能的表面材料检测模型,旨在以高效的方式检测和检查最小的缺陷。该设备结合了强大的光学和高级分析技术，提供了生产和研究任务所需的准确性和数据。
还没有评论