二手 KLA / TENCOR 2351 #293606934 待售

KLA / TENCOR 2351
製造商
KLA / TENCOR
模型
2351
ID: 293606934
Wafer defect inspection system.
KLA/TENCOR 2351是一种领先的晶圆和掩模检测设备,旨在提供高分辨率的模具结构、层的表面和轮廓测量以及任何制造缺陷的信息。这套高度先进的系统配备了一系列数字成像、自动化分析以及先进的晶圆表面和掩模检测技术。KLA 2351单元能够快速、准确地检查特征尺寸和材料,有助于缺陷保证和持续的工艺改进。TENCOR 2351配备了Macro Die Inspection machine,它能够以全场分辨率在3英寸晶片上检测多达2000个模具。利用2351先进的成像技术,可以获得高达8 MP的图像。KLA/TENCOR 2351还能够搜索侧壁粗糙度、先前工艺活动造成的缺陷、切块损坏或不希望的图桉等缺陷。KLA 2351的高级掩模检查工具允许对具有高性能成像和扫描的掩模进行检查。用于掩模检查的光学器件设计用于高分辨率成像,如背面图像和CD测量。2351 mask资产能够以极高的精确度和精确度读取高达2 µm特征的蒙版图像。此外,使用它们的CD-SEM成像模型可以用亚µm精度监测CD不匹配和CD均匀性等基板缺陷。TENCOR 2351还配备了先进的Automated Defect Analysis设备,可以自动识别微镜缺陷,并报告检测到的任何缺陷的性质。当今先进的半导体器件需要更高分辨率的半导体制造工艺,2351配备了最先进的软件,可以监测、测量和分类粒子、矿坑、矿坑和其他关键表面缺陷。此外,KLA/TENCOR 2351提供了一整套数据分析和报告功能,使流程工程师能够轻松地在自动化缺陷分析、设备管理和流程控制之间移动。综上所述,KLA 2351是一种真正先进、功能丰富的晶片和掩模检测系统。TENCOR 2351提供高分辨率成像、自动化缺陷分析以及先进的晶圆表面和掩模检测能力,有助于过程控制和缺陷保证。此外,2351利用其自动分析单元,可以轻松准确地检测微观缺陷,为工艺工程师提供最佳的保证和控制。
还没有评论