二手 KLA / TENCOR 2351 #9136720 待售
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已售出
ID: 9136720
High resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual FIMS EFEM, 12"
GEM SECS and HSMS
Signal light tower
XENON Lamp, 150 W
Wave length of illumination: 370 ~ 720 nm
Wave length band: Visible, UV and i-line
Pixel size: 160 ~ 250 nm
User Interface (Ul)
Computer monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
Inspection station:
Granite suspension power
Stage cooling: Blower
Optics plate pneumatics
Air filter
Wafer handler (EFEM)
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board
LP2 Cover and robot controller
Ul and IS Cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS TO UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350是为半导体工业设计的掩模和晶圆检测设备。它是一种高性能、经济高效的工具，用于收集半导体晶片和掩模的详细图像和测量。KLA 2350具有以亚微米分辨率快速获取和分析数据的能力，允许快速准确的晶圆检测、缺陷检测和质量控制。TENCOR 2350具有先进的光学设计,与类似的光栅掩模相比,可实现更高的分辨率成像和更高的信噪比。它还利用高精度、基于等离子体的MOEMS（微机电）扫描阶段对晶片和掩模进行快速和可重复的扫描。2350具有较大的视野（12 "x 12"）,没有失真,允许对平面和圆形结构执行广泛的检查任务。KLA/TENCOR 2350配备了高性能的1.3万像素传感器,可快速准确地获取数据。传感器可以配置一系列不同的模式,包括亮场、暗场和缝合图像。它还配备了全套缺陷审查、分类和比较工具，以及多种其他图像处理功能。对于先进的掩模检查应用，KLA 2350具有内置的高分辨率解调系统，可以提供比常规系统更高的精度。解调单元可以实时执行边缘检测、缺陷隔离和缺陷识别任务。此外,TENCOR 2350还包括一个集成的主机软件体系结构,它允许与其他仪器轻松集成以提高性能。2350适用于需要重复、可靠的检查、测量和分析的具有挑战性的应用。它的设计高度可配置,以满足从研究科学家到大批量生产线等众多客户的特定需求。该机器既可用于实验室,也可用于生产环境,为改进质量控制和减少过程缺陷提供了有效的解决方桉。
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