二手 KLA / TENCOR 2365 #293606937 待售

KLA/TENCOR 2365掩模和晶圆检测设备是一个以半导体晶圆、掩模和器件检测为主的前沿成像网络。该系统设计独特，在缺陷检测、三维地形检测、临界尺寸测量等具有挑战性的OEM应用方面表现出色。KLA 2365以纳米分辨率提供高质量的成像,最大活动表面尺寸为8 "x 10"（20 cm x 25 cm）。它还具有晶圆和平板缺陷分析功能，包括图像蚀刻和实时审查检查。该单元利用大视野、动态范围和高级软件来有效定位和识别缺陷。获得专利的自动缺陷分析技术使得识别晶片上的随机和结构元素变得容易。通过易于使用的图形用户界面,操作员可以快速浏览计算机并有效地管理工作流。革命性的Real-Time Review （RTR）模式以高达每小时1280个晶圆的速度显示在线操作期间的所有缺陷图像。利用强大的图像压缩功能,该工具可减少数据存储需求,同时提供高效的环境控制。TENCOR 2365利用了最新的散射法和亮场成像技术。200瓦ORION（模块化散射测量）光源提供最高分辨率的成像和表征能力。照明资产也可以定制，以满足特定应用与UV，IR，和脉冲激光光源。先进的2365晶片检测网提供了快速、准确的表面缺陷检测，确保晶片无缺陷、质量最高。智能模型针对每个样本优化分辨率、对比度和焦点,确保正确检测到每个缺陷。使用KLA/TENCOR 2365,操作员可以轻松排除问题并快速进行修改。该设备被证明是要求苛刻的应用的理想选择，因为它可以快速准确地检测到宏观缺陷、芯片边缘、颗粒、划痕和其他不同类型的缺陷。这就是为什么全世界的半导体芯片制造商都依赖KLA 2365 Mask和晶圆检测系统。