二手 KLA / TENCOR 2367 #9012614 待售
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已售出
ID: 9012614
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Brightfield inspection system, 12"
Install type: stand-alone
Cassette interface:
(2) Asyst 300mm FIMS LPs
(2) AdvanTag SW CID, G4
E84 for OHT with PIO for G4
E40/E94 HW support
Pre-aligner
Main unit:
Brooks robot
BB visible pixels (um): 0.62, 0.39, 0.25
BB/I-Line/G-Line UV pixels (um): 0.20, 0.16, 0.12
Edge contrast
Array and random modes
High mag review optics
High resolution review CCD
Anti-blooming TDI
IS station:
Status lamp (R, Y, G, B, Audible)
1600 MPSS image computer
Operating system: Windows 2000
Application SW ver: 10.4.507.0.5
GEM/SECS and HSMS
Power line conditioner
Remote power EPO
Facility requirements:
CDA
Vacuum (house)
Power (main): 208 VAC, 16 A, 3 phase, 5 Wire (WYE), 50/60 Hz
Damaged / missing parts:
Assy, CC W backplane, CRTAESCAPE – COBRA, Part No. 0080512-000
Assy, PS2, 36/56VDC 91XX, 93XX, 2367 (exchange), Part No. 0281722-000
FRU, 2366, FPA-base (exchange), Part No. 0111806-000
Assy, FPA arm without A&C apertures, Part No. 0112397-001
Robot (exchange)
Robot controller (exchange)
Can be inspected
2006 vintage.
KLA/TENCOR 2367 Mask&Wafer Inspection设备是专门为半导体制造应用而设计的高精度、自动化的晶圆和光掩码计量和检验系统。该装置为检测生产线上的光掩模和裸硅晶片表面提供了快速、可靠的解决方桉。KLA 2367机利用先进的喷墨技术在光掩模或晶片上沉积一系列紫外线荧光检测器。然后，这些标记被高光谱光源照亮，该光源产生由互补电荷耦合器件（CCD）阵列相机成像的条纹图桉。条纹图桉用于估计光掩模或晶圆的表面轮廓,并与用户定义的规范进行比较。然后,该工具使用软件算法处理和分析数据以检测任何曲面异常或特征。TENCOR 2367 Mask&Wafer Inspection资产具有多项优点，有助于提高半导体生产的准确性和生产率。该模型由多个CCD摄像机组成，这些摄像机为掩模模式识别提供了最佳的视野覆盖范围和焦点深度。这样可以确保更高的测量精度。对于晶片的检测，设备采用紫外线光谱检测晶片的平坦度、经度、针刺和步高。系统被编程为检测常见的缺陷如断线、闸桥和氧化物结核。此外,可选的自动化选项允许设备自动匹配晶片或掩模相对于光源的位置,以进行精确检查。2367 Mask&Wafer Inspection machine是一种先进的、提高生产力的解决方桉,它允许半导体制造商在确保产品质量控制的同时降低其总体检查成本。该工具强大的软件算法提供了晶圆和光掩码的真实3D分析,从而提供了非常准确的结果。此外,它还可以配置可选的自动化模块,以改善工作流程并提高生产吞吐量。
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