二手 KLA / TENCOR 2367 #9029088 待售
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已售出
ID: 9029088
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Brightfield inspection system, 12"
Install Type: Stand-Alone
Cassette interface:
(2) Asyst 300mm FIMS LPs
(2) AdvanTag SW CID, G4
E84 for OHT w/PIO for G4
E40/E94 HW support
Pre-aligner
Main unit:
Brooks robot
BB visible pixels (um): 0.62, 0.39, 0.25
BB/I-Line/G-Line UV pixels (um): 0.20, 0.16, 0.12
Edge contrast
Array & random modes
High mag review optics
High resolution review CCD
Anti-blooming TDI
IS Station
Status lamp (R, Y, G, B, audible)
1600 MPSS image computer
Operating system: Win 2000
Application SW ver: 10.4.507.0.5
GEM/SECS & HSMS
Power line conditioner
Remote power EPO
Facility requirements:
CDA
Vacuum (house)
Power (main): 208 VAC, 16 A, 3 phase, 5-wire (WYE), freq 50/60Hz
2004 vintage.
KLA/TENCOR 2367面膜和晶圆检测设备是一个生产计量平台，旨在支持各种缺陷检测、迭加和CD计量应用。该系统包括具有反射和透射光等级的亮场照明器、数码相机和强大的纳米级光学对准能力。此单元的设计可容纳2到12英寸的掩码和晶片大小的所有尺寸的掩码和晶片,其吞吐量范围可达50微米,最大输入分辨率。KLA 2367 Mask and Wafer Inspection Machine通过高级设计和性能特性的结合,满足业界对过程控制和总缺陷检测的苛刻需求。该工具提供了非常快速的自动机器对准功能,并能够使用具有反射和透射光等级的亮场照明器捕获高分辨率的全场图像。与彷真结果相比，采用晶圆CD和接触掩码数据作为输入，采用模式分类、算法缺陷审查和缺陷分类进行自动缺陷审查。TENCOR 2367的先进光学器件最大限度地减少了CD的变化，并在生产过程中从芯片到芯片的迭加测量。此外,资产的对齐/对焦功能能够精确放置掩码或晶片,以及在每次拍摄中对齐。集成模式识别软件以晶片CD和接触掩码数据作为输入，实现了快速掩码晶片缺陷分类和算法缺陷审查。2367模型还使用一系列软件应用程序和工具,用于图像采集和集成、样本/过程分析、数据管理和报告。每个应用程序都提供了收集、分析和传达每个晶圆计量项目目标的集成能力。该软件旨在满足客户对便携性、灵活性和可扩展性的要求。KLA/TENCOR 2367被设计为一种用于先进技术节点的可靠且经济高效的计量解决方桉。该设备提供智能操作,无需手动干预,并提供自动实时反馈和诊断,以确保最佳的测量性能。集成系统是为快速设置和无缝过渡从一个晶圆到下一个，使其容易产生高质量和稳健的检验结果。
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