二手 KLA / TENCOR 2367 #9189551 待售

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製造商
KLA / TENCOR
模型
2367
ID: 9189551
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Patterned wafer inspection system, 12" Wafer calibration kit including DSW & shiny Hardware options: Hermos (2 CID devices) Advantag (2 CID devices) KEYENCE BCR Singlewire (2 CID devices) Interlocks: Safety Interlock for open panel Safety Interlock for lamp Exhaust: 600 ft3/min 100 ft3/min 1300 ft3/min Integrated mini-environment FEC Computer system Intel® Pentium® 4 CPU 3.00GHz 2GB Memory (RAM) Dell computer system Intel®Xeon™ CPU 3.4GHz 2.48GB Memory (RAM) DVD ROM Mouse Keyboard HSMS/GEM SEMI E37 Compliant ethernet interface: HSMS (E5 / E30 / E37) GEM/SECS Automation interface (E4 / E5 / E30) SEMI E84 SEMI E116 Hokuyo sensors: Overhead transport (OHT) Remote guided vehicles (RGV/AGV) Auto switch for dual use environments Basic automation package: E39, E87, E90 (Carrier management/wafer tracking) Advanced automation package: E40, E94 (Process job, control job) Windows 2000 based operating system SP4 Spatial population analysis : Power options: Array segmentation Patch images: 64x64 Pixelperfect RBB RBMT Sensitivity tuner NPA Photo option: FEM PWQ Interface: Data transfer DVD-R Ethernet Hardware optic : BB Visible pixels (0.62 mm, 0.39 mm, and 0.25 mm) BB / I-Line / G-Line UV pixels (0.20 mm, 0.16 mm, and 0.12 mm) Edge contrastTM 1600 MPPS Image computer Array and random modes High mag review optics Anti-blooming TDI High resolution review camera Facilities: Power: 2V5W-N, 18KW Vw: 25 in Hg CDA: 5 Sft3/min Missing parts: (4) Image computer nodes 2007 vintage.
KLA/TENCOR 2367是KLA Corporation开发的高效、高质量的掩模和晶圆检测设备。KLA 2367使用先进技术在晶圆级和掩模级提供了缺陷的快速检测,并提供了结果的信息性分析。该系统包括一个双光束激光投影单元,可独立检测掩模两侧的规格,在该单元上对掩模图样进行快速、准确的分析。再者,TENCOR 2367集成了多种先进的光学方法,如散射测量,并有几种自动过程来保证检查的准确性和优化。2367提供晶片的高分辨率成像,减少了与缺陷检测相关的时间和成本。通过改变每个像素上的强度水平,它很容易检测到微妙的缺陷--甚至是蒙版图像中的微小颗粒或细线。它还能够检测掩码上突出或隐藏的图样、亚像素缺陷、电气和光学缺陷、迭加和迭加错误对齐。此外,KLA/TENCOR 2367机器还可以生成缺陷图,用于识别掩模模式和可能改进的区域。KLA 2367工具还提供了一些增强其功能和有效性的功能和选项。例如,它包括一个强大的图像处理软件,可以从SEM(扫描电子显微镜)图像生成3D体积数据。它还提供可定制的测量温度设置,以确保不同晶片的精度,以及控制尘埃探测面积、紫外线激光强度、曝光时间等能力。此外,它与各种类型的样品,如晶片和口罩兼容,以确保准确、高速的处理。总之,TENCOR 2367是一种先进的掩模和晶圆检测资产,采用最先进的技术检测和分析缺陷。它提供快速可靠的检测结果,可以生成信息丰富的缺陷图和图像。它还包括一系列可定制的功能,以确保准确性和精确度。2367具有高分辨率成像和图像处理功能,非常适合半导体和掩模制造行业。
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