二手 KLA / TENCOR 239 / 219 #76226 待售

KLA/TENCOR 239/219是一种用于半导体晶片光学检测的掩模和晶片检测设备。该系统具有先进的、高分辨率的数字成像单元和一系列强大的图像处理算法。该软件包包括用于简化缺陷检测的自定义软件应用程序,包括自动缺陷审查（ADR）和2D形态。ADR工具提供四种缺陷类型的检测，反应时间快，并通过多路径方法准确定位缺陷。2D形态学算法使用神经模煳计算技术检测细微的模式变化。机器的成像阵列具有512 x 1024的大像素大小，具有175 x 250 mm的视野，捕捉高质量的图像。通过集成交叉光栅滤波器来提高图像的亮度和对比度。还有一种先进的单色颜色分级模式,用于改进假颜色拒绝和边缘检测。KLA 239/219软件包构建在直观的Windows操作工具上,允许易于使用和快速适应。它旨在与现有的面罩检查工具集成，例如KLA自己的Contura Inspection Suite。软件包的主要特点包括模式类型识别、缺陷审查自动化、子像素掩码对准、激光扫描、迭加分析等等。该资产的设计已针对广泛的光刻元件，包括接触器、屏障层和钝化材料的高性能进行了优化。先进的算法和强大的处理器体系结构提供了快速的操作,使其成为一个经济高效的解决方桉,可以满足当今的高制造需求。TENCOR 239/219非常适合半导体行业的晶圆和掩模检查,在半导体行业中,识别缺陷和高分辨率、高精度成像对于确保产品质量至关重要。凭借其紧凑的设计和直观、用户友好的界面，该模型是任何半导体制造工厂的绝佳选择。