二手 KLA / TENCOR 2551 #293616226 待售

KLA/TENCOR 2551掩模和晶圆检测设备是一种自动光学检测系统，旨在识别各种半导体掩模和晶圆中的缺陷。该单元利用光学、运动机器和高级模式识别算法的组合来检测和识别掩码和晶圆背光中的缺陷。KLA 2551可以为全系列的掩模和晶圆生产技术提供缺陷检测支持，从简单的铝到更复杂的多金属、多层电阻和电容器结构。TENCOR 2551检测工具由三个主要组成部分组成：投影资产、XYZ运动模型和光源。投影设备由物镜、模片投影镜头和场投影镜头三个镜头组成。物镜将影像从模具投射到晶片上，而投影镜头则用来将影像从掩模投射到晶片上。反过来，场投影透镜被用来从整个晶片投射更大的图像到芯片上。扫描仪可以以用户定义的分辨率扫描晶片的全场图像，并将其与标准蒙版模式进行比较。这样，2551就能快速准确地检测和识别缺陷。此外,它还可用于快速准确地检测由不正确的薄膜厚度、弯曲、错误配准和其他问题引起的模式相关错误。运动系统由两轴线性级和两个旋转级组成。这使投影单元能够有效和准确地将自身重新定位到所需位置，以进行测量和检查。可以选择光源来匹配不同材料的信号范围和信号强度。KLA/TENCOR 2551配备了利用图像处理和人工智能（AI）算法检测和识别缺陷的高级软件套件。这包括按大小、形状、图桉和方向识别和分类缺陷的算法；用于将缺陷与其参考点进行比较；通过模式识别识别缺陷；并确定它们的真实性质和位置。此外，机器能够快速准确地为发现的每一个缺陷生成一个统计报告。综上所述,KLA 2551掩模和晶片检测工具是一种高度先进的自动化检测资产,旨在快速准确地检测和识别各种半导体掩模和晶片中的缺陷。它具有光学元件、高级运动和光源以及AI驱动的软件算法的组合，以确保最准确的结果。