二手 KLA / TENCOR 2552 #293800563 待售

KLA/TENCOR 2552 Mask&Wafer Inspection Equipment是一种高性能光学检测解决方桉，旨在检测半导体masks、晶片和光掩模中的缺陷。KLA 2552具有高对比度成像功能,可快速、自动化地减少错误缺陷警报,提高检测精度和吞吐量。该系统先进的光学技术包括超细线宽和平面的检测和成像、高度灵敏的实时对比度调整、特征和缺陷的自动识别以及小特征的广域分析。所有这些功能都集成到具有快速检查过程的独特模块化平台中。TENCOR 2552的核心是其先进的对比度成像技术，它使设备能够准确检测和分类各种掩模和晶圆基板中的特征和缺陷。利用其单源照明机，该工具能够检测到极小的0.1 μ m线条和空间，小于人眼所能看到的。强大的对比度检测器准确地测量和分类每一个特征或缺陷的对比度，使资产能够识别和标记那些不符合预定标准。该模型还利用其获得专利的线路空间测量功能，精确测量线路对之间的关键空间，并自定义对比度设置，以实现一致和准确的缺陷识别。这提供了一个高质量的过程，有助于消除误报。此外,2552还提供了广泛的成像模式,包括亮场、暗场、颜色和极化,允许用户自定义其成像需求以满足不同的基板和工艺需求。总体而言,KLA/TENCOR 2552掩模和晶圆检查设备提供了光学检查中最高的精度和最广泛的成像能力。该系统先进的光学技术和自动化的检测过程允许对掩模和晶片基板进行快速、精确和可靠的检查。