二手 KLA / TENCOR 259 #9396111 待售

KLA/TENCOR 259是一种自动化的自动掩模和晶片检测设备，设计用于检查半导体晶片和掩模以识别缺陷。它使用先进的高分辨率光学器件，使用户能够检测到晶片和掩模上最小的缺陷或不规则性。KLA 259允许以任何放大倍数检查晶片和掩码,其变焦范围可达令人印象深刻的50倍至250倍,并采用经过验证的高级扫描自动多点传感（MPS）技术。MPS使用创新的激光束自动对焦来测量表面的不规则性，提供无与伦比的精度和可重复性。TENCOR 259还具有自动化的AutoAlignment系统,允许用户快速、精确地将晶片或掩码对齐到检查区域。该单元还为用户提供高度自动化的缺陷管理机器,以管理和存储缺陷信息,并最大程度地减少手动干预。259设计了一个强大的平台,以确保结果的一致性和准确性,并具有防止用户错误或未对齐的几个功能。它包括一个专利的自校准掩模检查工具（MIT）,用于监视掩模对齐方式的变化,并根据响应立即调整光学器件。麻省理工学院还检查微小缺陷到亚微米大小的口罩，并记忆多种口罩类型，以最小的人工干预提供自动口罩检查。该工具还具有对图像数据进行实时分析和解释的高级图像处理算法，提供了快速准确的缺陷识别。KLA/TENCOR 259还设计用于可靠、低维护的操作,包括一个全面、用户友好的用户界面,用于控制、监视和配置资产。此界面可在PC、Mac、Linux和SGI等众多平台上使用,为用户提供灵活的操作。此外,该模型是可扩展的,可以定制以满足特定的需求。总之，KLA 259是为半导体应用设计的先进的自动掩模和晶圆检测设备，提供前所未有的准确性和可重复性。该系统利用先进的光学、MPS和AutoAlignment系统,提供对检查过程的全面控制,并具有能够准确检测微缺陷的MIT。此外,用户界面提供跨多个平台的直观操作,并提供完全的灵活性和可扩展性。