二手 KLA / TENCOR 2608 #9386377 待售
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KLA/TENCOR 2608 Mask&Wafer Inspection Equipment是一个自动化晶片检验计量平台，适用于200mm和300 mm晶片的高级工艺控制和线路监控。该系统设计用于精确测量光掩模、半导体晶片和平板显示器上的关键特征。其广阔的视野、纳米分辨率和高通量能力使其成为晶圆和掩模光刻控制的理想解决方桉。KLA 2608包括敏感的彩色CCD线扫描成像传感器、高性能光学器件和高分辨率晶圆级。CCD线扫描成像传感器具有小于8µm的像素大小,允许在掩模和晶圆表面上显示高分辨率的缺陷图像。此外,TENCOR 2608还提供了4 x 3英寸的大视野,为样品提供了广阔的概况,能够精确识别和定位缺陷。2608能够在掩模和晶片表面上执行各种测量，如薄膜厚度、折射率、地形、迭加验证、线宽、线宽和空间测量、捕获断线、处理暗线检测和验证宽线。此外,它还提供专门的算法,用于自动检测和审查缺陷,提高生产效率和准确性。KLA/TENCOR 2608配备高速晶圆传输单元，一次最多可装卸四个晶圆，允许高通量能力。KLA 2608还附带了一个集成的流程管理软件,用于自动化作业编程、远程访问、集中式数据管理和审核。KLA 2608Mask&Wafer检测机为半导体晶片和光掩模的检验和计量提供了更高的准确性、生产率和重复性。其强大的功能，包括先进的CCD线扫描成像传感器、高性能光学器件、4 x 3英寸视场、纳米分辨率和高速晶圆传输能力，适用于高精度晶圆和掩模工艺控制。
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