二手 KLA / TENCOR 2810 #9178483 待售
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ID: 9178483
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
Inspection system, 12"
UI and PC:
(2) Monitors
Joystick
Keyboard
System Control Computer (SCC)
IMC Rack (RMPU): CRT 0 and 1
Optics and stage:
TDI0: (16) Daughter boards
Chuck, 12"
AMAC Stage controller
Stage shipping brackets
AF Plate
XTC Board cables
High mag camera
Pixel size: 35 nm / 50 nm
Load port and robot:
ASYST ISO Dual load ports
Pre-aligner
FEC Handler control computer
Line conditioner / Exhaust boxes
Includes:
EFEM
RMPU
Monitor and table
Power supply
Missing parts:
Track ball
(6) Hard Disk Drives
Middle blade center power supply
AMM of Middle and bottom blade center
TDI1 Assy
GALIL 1 and 2 boards
(6) Stage AMP boards
AMAC Cover
(4) Stage air regulators
YASKAWA Robot
2008 vintage.
KLA/TENCOR 2810 Mask&Wafer Inspection设备是一种高速、高分辨率的自动光学晶片和mask inspection系统，旨在检测半导体晶片、标线、平板、MEMS等类型薄膜材料中的缺陷。该单元利用五轴运动、二维/三维成像以及广泛的分析和检验能力，提供质量控制、过程控制和质量保证。该检测机建立在一个多轴平台上，沿所有操作轴提供高分辨率图像采集。刀具利用5轴运动能力和可变梁角度选择来覆盖检查目标的所有部分。可变光束角度选择可确保检查晶片或掩模的所有部分以查找缺陷。资产由KLA IR接近对齐模型提供动力。该设备利用专有的软件算法将获取的图像精确对齐正在检查的晶圆/掩模的目标几何形状。这使得系统能够检测到非常小的缺陷和阴影，特别是在晶圆/掩码的边缘和角落附近。KLA 2810利用二维（2D）和三维（3D）成像进行卓越缺陷检测。该单元配备了先进的3D成像能力和特征识别算法,以获得更高精度的地形图像,从而能够更有效地检测缺陷并更快地进行分析。该机配备了广泛的缺陷检测能力，包括颗粒分析、缺陷表征分析、缺陷审查分类等。这样可以确保对检测到的任何缺陷进行准确的分析和分类,从而可以采取适当的操作。最后,TENCOR 2810具有高速数据传输功能,能够快速评估和向客户报告。该工具还具有全自动资产,可减少操作员疲劳并提高结果的准确性。总体而言,2810 Mask&Wafer Inspection模型为半导体晶圆、标线、平板、MEMS和薄膜材料检测提供了全面、经济高效的解决方桉。该设备提供卓越的灵敏度、高速成像功能、自动化功能和全面的缺陷检测功能,使其成为快速准确地检查晶片和掩模的强大工具。
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