二手 KLA / TENCOR 3905 #9310915 待售

KLA/TENCOR 3905 Mask&Wafer Inspection Equipment是一种前沿工具,用于检测和调试半导体制造过程中平面基板上的任何材料缺陷。该系统由几个组成部分组成，能够测量、识别、分类和修复缺陷。该单元利用各种技术和算法来确保高精度和高性能。机器的主要部分是基于衍射的光学成像工具，它能够在检查过程中同时可视化基板内的多层。该资产采用基于波长的多反射方法实现多层缺陷检测。它还包括一个图样照明对比模型（PICON），利用边缘检测和暗场技术来提高缺陷定位能力。除此以外，设备还包括用于数据处理、特征检测、分类、排序和报告的软件模块。KLA 3905 Mask&Wafer Inspection System集成了一个全光谱成像单元，该单元包含多个光学组件，如光源、检测器和光学滤镜，以更好地识别和检测缺陷。本机采用创新的自适应亮场照明技术，确保大面积检查的最大性能。它还具有将每个缺陷分类为众多类别之一以增强缺陷分类和修复的功能。该工具集成了一类新的实时成像技术，以提高基板检测的速度。这包括利用先进的深度神经网络（DNN）重建单个缺陷特征的深度缺陷重建。DNN能够通过组合成像数据生成缺陷的3D表示。这种实时成像技术使缺陷识别和分类能够更快地完成-有助于节省时间和成本。TENCOR 3905 Mask&Wafer Inspection Asset还包括几种自动对焦和变焦光学。它支持多种分辨率,允许用户更好地区分和分析单个缺陷。使用适当的放大倍率,模型可以识别许多缺陷。设备还包括一个用户友好的交互式网络界面，允许用户实时监控操作并在需要时进行调整。3905 Mask&Wafer Inspection System已被证明是半导体制造的高效、经济高效的工具。它可靠可靠,可提供一致的结果,提高电子产品的整体质量和性能。凭借这一单元带来的巨大潜力，未来在增强半导体制造工艺方面显得光明。