二手 KLA / TENCOR 45 #38072 待售

KLA/TENCOR 45面膜和晶圆检验设备设计用于晶圆的生产和研发过程。该系统能够以高达每像素1微米的分辨率同时检测高达KLA 45晶片。该单元具有一个5轴级,可以将其编程为在晶圆上移动,从而实现全面覆盖,而无需额外的级。该机配备了包括先进的RGB、红外和紫外线（UV）照明以及同轴干涉工具在内的多种图像捕获和处理技术。RGB照明用于提供高动态范围成像，而红外和紫外线照明则允许资产检查肉眼看不见的波长。同轴干涉模型允许用户捕获晶圆表面的三维图像。检查设备由运行在Windows PC上的图形用户界面（GUI）控制。这样,用户就可以轻松浏览系统、显示和分析图像,并导出结果以供进一步查看。该装置能够检测各种缺陷，包括颗粒、划痕、环绕、短路和开路、桥接和形状缺陷。此外,该机器通过提供自动模具产量估计以及用于迭加和小体积分配的空间数据分析,提供有价值的过程反馈。该工具高度可配置,允许用户设置和自定义自己的检查参数和配置文件。这允许用户为其特定应用程序优化资产。该模型还支持多种文件格式,使用户可以灵活地使用最新的第三方软件工具查看和分析其数据。综上所述，TENCOR 45 Mask&Wafer检测设备为生产和研究晶片的检测和分析提供了一个强大而灵活的平台。该系统具有广泛的功能,从图像捕获和分析到缺陷检测和反馈。凭借其易于使用的GUI和广泛的文件格式,该单元为用户提供了高度的灵活性和对晶圆检查过程的控制。