二手 KLA / TENCOR Archer 10 #9205450 待售
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已售出
ID: 9205450
Overlay inspection system, 8"
Does not have KLASS computer
Halogen light source:
Halogen lamp (HLS)
P/N: 127-483105-000 (X)
PDA Gain: X, Y Axis
Wafer surface focus and analysis patened
LINNIK Camera uniformity
AMS Camera uniformity
GEM/SECS
Fringes:
ON to OFF mean time
OFF to ON mean time
Line conditioner: 60 Hz
Power: 208/230 V, 3 Phase/1 Phase 50/60 Hz
Noise test:
AMS Camera noise level: 0.68 GL
Light map: 30 Min
50 BP (LINNIK)
12K BP (AMS 12K µm FOV)
PDA:
PDA Gain: 2527 GL
PDA X Axis centering current signal: 653
PDA Y Axis centering current signal: 648
System:
Check shutter response time
Fringes ON to OFF mean time: 65.3 msec 20<x<80
Fringes OFF to ON mean time: 44.5 msec 20<y<80
Check translation vector:
Co-ordinate:
x: 1848.9 µm
Y: 61496.6 µm
Z: 707.2 µm
2004 vintage.
KLA/TENCOR Archer 10是一种前沿掩模和晶片检测设备，用于检测和测量光掩模、晶片和其他平台不可知基板上的缺陷。该系统采用先进的发射成像发光技术，利用亮场和暗场图像检测和分析高分辨率缺陷。它提供了快速、高度准确和自动化的缺陷审查,为用户提供了无与伦比的吞吐量和性能。KLA Archer 10单元设计为在一系列应用程序和过程中有效,可同时处理平面和曲面。它可以检测光刻、蚀刻、沉积、沉积模式和介电损伤造成的缺陷。这样可以更快、更准确地检测和分类缺陷,帮助客户降低与缺陷相关的成本。高分辨率成像、自动缺陷审查和全面缺陷文档的结合,使TENCOR ARCHER10成为最苛刻的工业环境的强大工具。它可以轻松地与其他设备（如缺陷控制软件解决方桉）集成,以实现准确、实时的数据分析。TENCOR Archer 10机器能够通过亮场和暗场成像快速准确地识别缺陷。这样可以实现可靠、可重复的结果和快速的缺陷分析。其先进的多模具成像确保了准确性和速度。该工具的用户友好软件使其易于操作,其高级功能确保了最大精度。ARCHER 10的自动化套件提供了简单的设置和灵活的数据分析，其集成的3D样本扫描仪和检查引擎使晶圆和基板的高通量处理成为可能。KLA ARCHER10还提供了惊人的详细缺陷图像。其软件可以详细分析和显示缺陷，允许用户放大和缩小以评估缺陷大小和形状。它还有一个基于过滤器的缺陷识别工具，可以过滤出错误的缺陷，允许用户确保他们看到准确的结果。此外,该资产还提供了全面的缺陷控制.缺陷报告和缺陷分析以及实时SPC等功能使用户能够快速识别、分类和监控缺陷趋势。总体而言，KLA的Archer 10是一种先进的高速掩模和晶圆检测模型。KLA/TENCOR凭借其直观的软件、多模具成像、自动缺陷审查和全面的缺陷控制,为工业环境提供了无与伦比的吞吐量和性能ARCHER10。
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