二手 KLA / TENCOR Archer 200 #293800299 待售

KLA/TENCOR Archer 200是一种下一代晶圆和掩模检验工具，设计用于半导体制造的高级计量检验。它配备了专有的"扫描电子光学"和专有的"全场光掩模对准"技术，为关键过程控制和屈服优化提供无与伦比的成像能力。KLA Archer 200设备采用亚微米分辨率电子/离子/光学对比度成像和高级计量相结合的方法，检查晶圆和掩蔽超出规格的缺陷，如粒子污染、光刻误差和光掩模对准误差。它旨在提供高通量、高分辨率成像和检查掩模和晶片缺陷。该系统的电子/离子光学功能允许精确成像高放大倍数高达70,000倍的不合格缺陷。这种成像分辨率对于精确的颗粒污染和颗粒缺陷分析（PCD/PDCA）应用以及工艺控制和垂直热点分析至关重要。集成到TENCOR Archer 200中的高级计量功能可以检查光掩码和晶圆上的图案化和非图桉化特征。它可以检测到大小约为0.01µm至0.1µm的缺陷，包括那些太小而无法用传统光学技术检测到的缺陷。对于光掩模检查，Archer 200包含了业界最先进的全场光掩模对准技术。这项专利技术可确保在整个视场上精确测量对齐方式,消除缝线/定位错误造成的错误。该机组还能同时进行吞吐量和模模检验，减少周期时间，提供更高的产量。总体而言，KLA/TENCOR Archer 200是一款先进的面膜和晶圆检测机，设计符合最严格的行业标准和产量要求。其业界领先的功能和高级扫描功能可提供无与伦比的成像分辨率,并提供优化功能,这在高级工艺控制和光刻应用中尤为重要。