二手 KLA / TENCOR Archer AIM+ #9251129 待售

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ID: 9251129
Overlay inspection system.
KLA/TENCOR Archer AIM+是一种革命性的掩模和晶片检测设备,设计用于提供高精度的表面成像和光掩模、标线和半导体晶片的三维检测。该系统采用扫描电子显微镜,提供了更好的反向散射对比度、优异的低kV成像、动态对焦控制和优异的分辨率。KLA Archer AIM+是一个自动化的单元,提供快速的检查时间和严密的过程控制-由于其独特的设计和高级算法的使用,该机器能够以一致的精度测量和分析快速移动的缺陷。TENCOR Archer AIM+采用先进的汽车级框架和晶体管级缺陷测量技术,在光学和SEM系统上自动保持1 µm ±的对准精度,大大简化了检测过程。该工具结合了100 kV的自动存储能量探测器,通过识别电子缺陷产生的独特散射和X射线信号,准确识别和测量电子缺陷。它的高速晶圆映射功能允许实时监控晶圆产量,为工艺工程师提供晶圆状况的全貌,使他们能够直接应对不一致的产量问题。Archer AIM+是一种集成且用途广泛的掩模和晶圆检验资产,适用于多种应用,从前端半导体器件制造到高端光学器件。模型强大的光学器件几乎可以检查任何特征大小(即使是那些低于衍射限制),而大的样品级可以很容易地容纳许多类型的样品。该设备还提供二维FEOL/BEOL覆盖范围扫描,足以检测模具级缺陷,并且系统的复杂特征分析功能使用户能够准确识别各种缺陷类型。总体而言,KLA/TENCOR Archer AIM+是一款功能强大、用户友好且用途广泛的成像和检查解决方桉,专门为满足半导体、标线和光掩模制造商的需求而设计。该单元的内置自动化和高速扫描仪使其易于设置和操作,而直观的用户界面则确保用户能够从机器中获得最大收益。该工具还提供了样品质量的详细信息,能够快速识别和测量缺陷,而不会减慢工艺速度。KLA Archer AIM+以其卓越的性能、精确度和直观的操作,是掩模和晶圆检测的完美解决方桉。
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