二手 KLA / TENCOR Archer XT+ #9227344 待售

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ID: 9227344
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Overlay measurement system, 12" Process: Metro Operating system: Window XP SMIF / FOUP Safety standard: SEMI S2-0706 Wafer transfer Load port KAWASAKI Transfer arm (Robot) Does not included hard disk 2007 vintage.
KLA/TENCOR Archer XT+是一种用于先进半导体光刻和模具制造工艺的掩模和晶圆检测设备。它提供电子显微镜(SEM)、电子束光刻(EBL)、扫描电子显微镜(SEM)和电子束直接写入(EDW)数据的原始图像自动分析。该系统能够对晶圆、掩模和电子束中的颗粒残留物进行高速、高分辨率的检测,并能够检测到纳米以下的单个缺陷。KLA Archer XT+采用专有算法快速分析数百万像素以进行精确掩码和晶圆缺陷检测及分类分析。该单元能够检测到各种各样的缺陷,包括Opens、Shorts、重复缺陷等严重缺陷;边缘或图桉放置精度(欧拉)缺陷;层对层错误;晶粒取向检测;抵制覆盖;谷物结构;和表面粗糙度。它还包含严格的测量机制和报告精度,范围从<1 µm到1nm不等,具体取决于缺陷类型。TENCOR Archer XT+采用全自动检查和计量套件构建。这包括一个高效的成像、过滤和分割工具集,与巧妙的分析集成在一起以检测、分类和验证缺陷。包含的比较算法库允许快速分析历史数据。此外,计算机还使用高级预测分析来识别用户并提醒他们注意潜在的过程和过程工具问题。除了自动检查和分析之外,Archer XT+还提供了对各种可视化工具的访问。这包括用于复合缺陷分析的多图像对齐、用于复杂缺陷分析的多变量分析以及检测和比较特征与规范的能力。提供的Wafer和Mask Strip Analysis功能支持即时、多图像导航和高级图像分析例程。KLA/TENCOR Archer XT+是一种用于掩模、晶圆和模具生产的最佳计量解决方桉。其先进的结果准确性、强大的算法、自动缺陷检测和分类以及可视化功能使其成为流程优化和高级缺陷管理的理想工具。
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