二手 KLA / TENCOR AWUS 3110 #9236712 待售

KLA/TENCOR AWUS 3110 Mask&Wafer Inspection设备是一种可靠、功能强大的全场检测系统,旨在提高产量、提高成本效益,并为关键过程控制应用提供快速、精确的缺陷分析。该单元使用先进的高分辨率光学器件、基于层的光学参数图样测量以及增强的信号处理，以提供高检测灵敏度和改进的数据分析能力。这意味着用户可以获得具有更高准确性和对比度的缺陷站点高分辨率图像以立即识别缺陷,以及设备层的晶莹剔透图像以改进模式识别。KLA AWUS 3110 Mask&Wafer Inspection Machine具有直观的用户界面,能够在整个工具中进行简单的导航,并具有用于检查不同类型的晶片和Mask的多种选项,包括全场、多级和微观检查。它具有精确且高度可重复的自动聚焦功能,能够通过实时配置文件快速进行聚焦测量,可用于过程优化。它包括一个先进的缺陷检测算法，它拒绝错误缺陷调用，减少检查错误失败和生产报废。资产的广泛测量功能有助于检测可能导致收益率下降的细微缺陷。增强的图像分析算法和自动缺陷分类模型为解决问题和过程控制提供了快速而确凿的数据分析。该设备有一个获得专利的激光扫描覆盖层，用于掩模和晶片检查，以确保整个过程的数据准确性和一致性。TENCOR AWUS 3110 Mask&Wafer Inspection System除了具有强大而精确的性能外,还设计了最大的可靠性,具有快速的吞吐量和较高的稳定性。该单元可帮助用户缩短周期时间、提高产量并加快上市速度。它能够处理各种晶片、异物和缺陷类型，并得到训练有素、经验丰富的技术支持人员的支持。