二手 KLA / TENCOR Candela CS20 #293772319 待售
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ID: 293772319
晶圆大小: 6"
优质的: 2006
Surface measurement system, 6"
Illumination source: 8mW
Operator interface: Tracball and keyboard standard
Substrate thickness: 350 µm-1100 µm
Substrate material: Any clear / Opaque polished surface
Defect sensitivity: 0.08 µm
Scratches: 100 µm
Stain: 20 µm
Opaque substrates
EPI Layer
Transparent film coatings: SIC, GaN, Sapphire
Parameters: Ra / Rq / Wa / Wq
Cassette handling: Single puck with up to 200m
Operating environment specifications:
Voltage supply: < ±10%
Environment: Class 1000 / Better recommended
Air: CDA 95-110 psi, 2 CFM
Equipment: Pollution degree 2
Power supply: 8A
Computing system:
Hard drive: 200 gb
RAM: 2 gb
Ethernet: Network card
Operating system: Microsoft windows XP
2006 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20是一种尖端的掩模和晶圆检测设备,是半导体制造过程中必不可少的工具。该系统旨在提供高分辨率成像和分析能力,用于检测缺陷并确保用于生产集成电路的掩模和晶片的质量。KLA CANDELA CS-20的核心是其先进的光学技术,它使该单元能够以极高的清晰度和精确度捕获极详细的掩模和晶片图像。该机器结合了亮场和暗场照明技术,揭示了这些关键元件表面可能存在的缺陷和其他缺陷。TENCOR CANDELA CS 20的高分辨率成像功能允许检测尺寸小至几纳米的缺陷,从而确保在制造过程中发现并解决最微小的缺陷。Candela CS20的一个关键特点是能够对掩模和晶片进行快速和自动化的检查,允许在短时间内对大量组件进行高通量分析。该工具配备了先进的图像处理算法,能够快速准确地识别缺陷和异常,帮助制造商保持高水平的质量控制,确保产品的可靠性和一致性。除了成像功能外,CANDELA CS 20还提供了一系列分析工具和功能,使用户能够对蒙版和晶片上的缺陷和其他特征进行详细分析。资产可以生成曲面的3D表示,从而可以对缺陷进行深入描述,并提供有关其形态和分布的宝贵见解。用户还可以对缺陷数据进行统计分析,帮助确定可能表明制造过程中潜在问题的趋势和模式。TENCOR Candela CS20设计为用户友好且易于操作,具有直观的界面,允许用户快速设置和执行检查。模型可以配置为执行广泛的检查任务,从常规的质量控制检查到对特定特征或缺陷进行更深入的分析。用户可以定制检查参数和标准以适应自己的特定要求,确保设备满足其制造操作的独特需求。总体而言,CANDELA CS-20是一个最先进的掩模和晶圆检验系统,为半导体制造商提供无与伦比的成像和分析能力。KLA/TENCOR CANDELA凭借其先进的光学技术、高分辨率成像能力和先进的分析工具,为检测缺陷和确保集成电路生产中使用的掩模和晶片的质量和可靠性提供了强大的解决方桉CS-20。
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