二手 KLA / TENCOR Candela CS20 #9389552 待售

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ID: 9389552
优质的: 2012
Surface measurement system, 2"- 8" Thickness: 350 µm to 1,350 µm Defect sensitivity: 0.08 µm Diameter PSL Sphere equivalent: ≥ 95% Capture rate Surface topography: >2Å Ra sensitivity Parameters: Ra, Rq, Wa, Wq Film thickness uniformity (Single layer): 5Å <Thermal oxide < 1000Å Depth of focus: Maximum ±15 µm under bow Repeatability: CV ≤ 5.0 % Edge exclusion: Imaging (No exclusion) Defect analysis, varies with wafer size (Nominal: 2"= 1.5mm, 8"= 5mm) Defect types: Particles Scratches Stains Pits Bumps Scratches: 100 µm long, 0.1 μm wide, 50Å deep Pits: 20 µm Diameter, 50Å deep Stains: 20 µm Diameter, 10Å thick Illumination source: 50 mW Laser 405 nm Wavelength R-Θ Coordinates Coordinate precision: 80th percentile ≤150 µm Coordinate accuracy: 80th percentile ≤150 µm Spatial resolution: Minimum ≥ 10m spacing at outer edge of 8" Single channel particle measurements Robotic wafer handler, 2"- 8" Operator interface: Trackball and keyboard LCD Monitor, 19" 2012 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20是一种先进的自动掩模和晶圆检测设备,旨在为半导体制造商提供突破性的分辨率和重复性。该系统利用蓝光LED和专有成像光学器件在检查晶片和掩模到5纳米分辨率时达到无与伦比的清晰度。KLA CANDELA CS-20配备了几个先进的功能,如集成的空气轴承扫描级、脉冲光束象限照明和自动缺陷分类,这些功能共同产生高对比度图像,以便尽可能进行最彻底和准确的检查。光学单元提供用于检测表面缺陷如颗粒、污染和针孔的表面和横截面图像数据。在线自动缺陷分类机还可以根据严重程度识别不同的缺陷类型和分类。这不仅减少了从业人员的失误,而且保持了检查结果之间的高度一致性。TENCOR CANDELA CS 20还采用了先进的模式匹配算法来识别潜在缺陷,以及自动缺陷聚类分析来识别多芯片晶片上可重复的缺陷。结果以易于导航的图形格式显示,并且可以将x轴和y轴中的图像移动到目标问题区域。该工具还允许将图像从横向、空中和横截面角度进行目标和隔离。此外,从资产中收集的数据使用户能够验证过程步骤的准确性,如废止和模式。数据可以存储和存储在集中库中进行检索,因此非常适合长期缺陷分析和过程跟踪。该库还可用于比较捕获的图像和所需的结果以进行模式匹配。CANDELA CS-20是晶圆和掩模检验的革命性模型,提供了最可靠和可重复的结果。通过将专有光学器件与集成的空气承载级、脉冲光束照明和自动缺陷分类相结合,设备确保用户在当今要求最苛刻的先进金属硬质掩模和晶片检查之前保持几步之遥。
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