二手 KLA / TENCOR CRS 1010 #51182 待售

KLA/TENCOR CRS 1010是一种用于半导体制造的掩模和晶片检测设备，用于识别光掩模和晶片基板中的潜在计量误差和光学缺陷。系统使用具有先进光学和高清数字处理能力的高分辨率亮场/暗场成像单元，检查每个掩模/晶片是否有缺陷。KLA CRS 1010能够同时检查多达24个掩模板或晶片,提供更快的吞吐量和更高的吞吐量,并具有高精度和重复性。机器的成像工具由两个探测器，一个亮场和暗场探测器组成。该光场探测器用于识别粒子缺陷，而暗场探测器则用于检测光学缺陷。成像资产以各种放大倍数运行,使用户能够检查低至0.2µm和更小的功能。模型的自动缺陷分类算法识别和分类粒子，纳米结构和位错，与缺陷自动聚焦和精确测量每一个缺陷。TENCOR CRS 1010配备了各种先进功能，以增强检测能力，驱动更好的过程控制。它具有先进的过滤器选择功能,能够精确识别缺陷。用户可以自定义每个应用程序的过滤器设置,并可以指定自己的颜色参数以精确识别缺陷。软件还允许用户定义自己的阈值并自定义缺陷排序。此外，设备还包括批量检测，允许用户同时检测多个基板。CRS 1010系统的设计考虑到可靠性和易用性。它利用安全、闭环的机器人工作负载处理和基板定心,确保精确的掩模/晶圆定位,并降低样品损坏的风险。此外，该单元还包含一个用于样品运输的空气级，为检查提供了一个清洁、无尘的环境。通过直观的用户界面,用户可以快速、轻松地对计算机进行编程,从而实现快速、准确的设置、执行和分析。总之，KLA/TENCOR CRS 1010是一种先进的检测工具，设计用于精确、精确的掩模和晶圆检测。其高分辨率成像和自动化缺陷分类功能使用户能够快速轻松地识别掩模和基板表面的缺陷。其直观的用户界面、快速的吞吐量和可靠的性能使其成为理想的掩模/晶圆检测资产,确保了更高的产量和更好的过程控制。