二手 KLA / TENCOR CRS 1010S #293735887 待售

KLA/TENCOR CRS 1010 S是一种用于半导体器件高效可靠光学检测的掩模和晶圆检测设备。这个系统包含一个3维（3D）自动对焦相机，提供对标本轮廓和形状的精确测量。它使用户能够识别尺寸小至3微米的精细几何细节，从而可以对掩模和晶片进行精确的缺陷检测。KLA CRS 1010 S提供了用于自动缺陷检查、缺陷审查和测量操作的直观界面。它利用全面的检查算法和工具库，使用户能够快速准确地定位、评估和测量缺陷。该单元操作范围广泛，从5倍到300倍，并提供市场上可用的最高放大分辨率（5 nm）用于掩模和晶圆检测。配备高分辨率、800万像素的64位色深数码相机。此设备同时支持CCD和CMOS映像捕获。高级零件识别功能通过识别晶圆上的粒子并测量其大小、形状和位置,帮助自动化设备检查过程。它可以检测到3微米大小的颗粒，这在检查污染源时很重要。TENCOR CRS 1010 S还提供了优越的背面检查能力，为用户提供了对标本背面缺陷和颗粒堆积的深入检查。此外,该机器通过模式检测功能实现快速分析,该功能可以自动将晶圆或掩码模式与来自不同来源的预期模式库匹配。此功能可精确检测线条、空间和对称模式的缺陷。再者，由于其高扫描速度，CRS 1010 S可以以无与伦比的精度处理高达每小时450个晶圆。KLA/TENCOR CRS 1010 S在半导体生产线提高质量控制方面有一系列强大的选择；包括掩模缺陷检测、背面检测、模式检测和粒子测量。这使得该工具非常适合各种质量控制在半导体生产中的应用。KLA CRS 1010 S是为了提供一个可靠、高效、精确的面罩和晶圆生产的检验资产而打造的。