二手 KLA / TENCOR eDR-5200 #9161799 待售

KLA/TENCOR eDR-5200是为满足最严格的要求而建造的下一代自动掩模和晶圆检测设备。它提供了前所未有的性能以及高速和卓越的精确度。该系统的主要特点包括大视野、高效成像路径和高度先进的光束扫描单元。KLA eDR-5200具有高达9000 x 9000微米的大图像视场（FOV）。这种扩展的FOV使得晶圆和掩模检查能够以最少的时间和精力覆盖大量区域。结合内置的光学、成像技术和先进的照明，这台机器能够产生质量优越的图像。此外,该工具还具有流线型成像路径,可提供最佳的图像清晰度和质量。利用图像传感器和分析技术,资产能够检测复杂图样和形状的缺陷,例如,即使是小划痕、污染物、突起和其他基板不规则。此外，该模型还包括一个高度先进的光束扫描设备，该设备是为满足所检查的掩模和晶片的具体要求而量身定制的。TENCOR eDR-5200为快速可靠的性能而设计，其光束扫描系统能够在30分钟内扫描整个4英寸晶圆。EDR-5200是检查口罩和晶片的先进工具。它有一个大的FOV，一个流线型的成像路径，以及一个精密的光束扫描单元，所有这些都使它能够执行最复杂的检查任务，以令人难以置信的速度和准确性。随着半导体制造设备的不断发展，KLA/TENCOR eDR-5200仍将是一种可靠而有力的掩模和晶圆检测工具。