二手 KLA / TENCOR eDR-5210 #293755074 待售

KLA/TENCOR eDR-5210是一种用于高精度分析光掩模的掩模和晶圆检测设备，测量的特征小至0.08微米。该系统能够同时检查标线和晶片，并利用先进的光学技术，如散射法和光学显微镜，探测和识别粒子----甚至是尺寸小于一微米的粒子。基于光纤的单元能够生成极其详细的蒙版图像,即使在较小的放大倍数下也是如此。此外，它还可以生成关键模式的高分辨率散射测量，如沟槽、通气孔和间距。该机器还能够对加工后的晶片进行缺陷检查，帮助用户识别和量化表面和深度缺陷。KLA eDR-5210还能够分析不同类型的材料，从石英到硅，对大的和细间距的掩模都能精确执行4倍的标线缺陷检测。该工具包括高级软件,可快速高效地检查和测量大型数据集,并便于自动进行缺陷分析。该资产具有高速扫描镜、精密过程控制、光谱仪光学模型和可靠的10kHz激光设备等几个关键特点。这些组件共同使机器能够产生准确的图像，以比常规方法更高的分辨率测量缺陷，并快速识别和诊断潜在的错误。总体而言，TENCOR EDR 5210是一个功能强大、高性能的掩模和晶圆检测系统，非常适合各种半导体生产应用。通过将先进的光学技术与强大的软件相结合，机器能够准确地检测和报告最小的缺陷，使其成为高效无误制造必不可少的工具。