二手 KLA / TENCOR eDR-5210 #9278890 待售

KLA/TENCOR eDR-5210是一种用于检查先进半导体器件在生产过程中移动的掩模和晶圆检测设备。该系统提供多用途的检查功能,并结合先进的成像和分析技术,以确保正确测量设备的特性、缺陷和其他特性。该单元有一个双轴晶圆级，可以适应大多数行业尺寸要求的均匀晶圆地形。它还拥有0.55 µm M2.5 0.55 µm像素大小的4x4英寸×视场。该机采用高精度缺陷定位（HADL）技术，这是一种高分辨率、高精度成像技术，可以在360度视场范围内检测小于0.3 µm的缺陷。该工具还包括一个智能扫描模式算法（ISPA），以提高均匀性。ISPA旨在根据过程变量和材料组成、批处理过程参数和规范设置自动检测缺陷并强制执行特定的缺陷限制。此外,该资产还提供专有的智能表面分析（ISA）工具,包括独特的粒子识别（UPI）技术,用于检测和表征粒子、线宽和空隙。该模型采用了最新的成像和照明技术，包括基于LED的3D照明、基于LED的多平面照明、用于无搜索缺陷检测的可变斑点大小（VSS）模式以及用于改进边缘对比度的激光反射法。它还提供了一个功能强大的16位图像处理器，实时数字图像处理，快速计算缺陷和粒子信息。最后，KLA eDR-5210提供了三个软件包的选择：KLA Desktop Explorer、AOI Express软件和AOI Integrated软件。这些软件包提供实时数据分析、自定义报告生成、分析和监视、晶圆和模具映射以及粒子和缺陷跟踪等功能。此外,设备还提供高级数据导出功能,使客户能够将数据导出到各种外部测量和分析工具。TENCOR EDR 5210是一种先进、通用的掩模和晶片检测系统,提供业界领先的图像和分析功能。凭借其最先进的照明、成像和分析技术，客户可以相信其检验结果可靠准确。该单元为各种先进的半导体器件和集成电路提供了提高数据准确性和全面缺陷检测和分析的好处。