二手 KLA / TENCOR eDR-5210 #9397337 待售

KLA/TENCOR eDR-5210是为半导体制造业设计的最先进的掩模和晶圆检测设备。该系统结合了光学检查和电子束（e-bame）检查能力，为各种图样和非图样层提供了高度准确和可靠的缺陷检测。KLA eDR-5210非常适合阵列化和非图桉化的掩模检查和审查。自动掩模和晶片检查装置具有内置的高精度CCD摄像头和MAP软件，使其能够快速检测晶片表面的细微缺陷，并捕获掩模图像上的细小图桉。该机的曝光视场高达6英寸x 6英寸，可达到的最大分辨率为16 μ m。TENCOR EDR 5210融合了最先进的成像技术，使其能够检测和分析包括线宽收缩、线宽过度生长、线缘粗糙度、突起、坑、坑、桥短裤、开路、短裤等多种缺陷。该刀具的缺陷灵敏度为0.4 μ m，即使在最具挑战性的纳米级器件设计中也能拾取缺陷。此外，资产能够在各种暴露水平上进行分析，包括暗场、亮场、斜场和光传输。该模型还集成了复杂的模式识别功能，如可编程的视觉模式识别、基于特征的缺陷检测以及自动分割。该设备还具有高级处理功能,如故障定位、阵列形状分析和3D测量。所有这些都使系统能够快速准确地检测和识别缺陷。KLA/TENCOR EDR 5210具有较高的数据吞吐量,非常适合自动缺陷审查（DPReview）应用程序。它具有高达200张/小时的快速吞吐量速度，这使得它非常适合生产线检查。该设备还能够标记检测到的缺陷,以便于审查和分类。TENCOR eDR-5210可靠，操作简单，物有所值。它需要最低限度的维护,非常方便用户,并且高度可配置以满足特定的客户要求。因此，对于需要可靠缺陷检测系统进行生产的半导体制造商来说，这台机器是一个很好的选择。