二手 KLA / TENCOR eDR-5210S #9390422 待售

KLA/TENCOR eDR-5210S是一种前沿掩模和晶圆检测设备。KLA eDR-5210S设计用于掩模和晶片制造,为检测缺陷提供了全面的解决方桉。TENCOR eDR-5210S采用最先进的图像技术来检测各种光掩模和晶片上的细微复杂缺陷。EDR-5210S包括一个高分辨率、高清晰度的黑白CCD摄像机,以及一个远心光学系统,可提供超过400微米的光圈。自定义图像处理算法与功能强大的嵌入式计算机相结合,可实现图像的超高速处理。KLA/TENCOR的图像处理功能还eDR-5210S使它能够识别复杂的模式,如桥接、临界尺寸（CD）错误、模式移位和错位等。KLA eDR-5210S的设计采用开放式体系结构,可灵活地集成到任何现有或计划的测试平台中。该单元与25mm和30mm的口罩都完全兼容，晶圆与各种基材完全兼容。TENCOR eDR-5210S还具有与第三方软件和硬件接口的能力。该机采用了最先进的微侵蚀技术，能够以2微米的分辨率检测微小缺陷。除了缺陷检测外,eDR-5210S还提供全面的晶圆质量评估,测量均匀性、表面粗糙度、线宽和图样完整性。该工具的高级编程功能包括具有直观菜单结构的图形用户界面（GUI），用于创建和修改检查脚本，以及旨在快速勾勒出潜在缺陷的菜单。资产还具有存储图像数据以备将来使用的能力。KLA/TENCOR eDR-5210S还支持广泛的测试协议,包括掩码蚀刻、X射线成像和表面扫描。KLA eDR-5210S是口罩制造和晶圆检测的理想选择，提供了市场上最精密、用途最广泛的检测模型。TENCOR eDR-5210S具有先进的图像处理能力、高分辨率摄像头和灵活的编程功能,可确保对掩码和晶片缺陷的准确可靠检测。