二手 KLA / TENCOR EFEM #9276743 待售

KLA/TENCOR EFEM是一种用于处理半导体器件制造中使用的感光石英掩模的生产检验要求的掩模和晶圆检验设备。它利用明场、暗场、数字路径差分（DPD）成像等专有的先进检测技术，识别掩模和晶圆上的颗粒和异物等缺陷，允许精确测量两者之间的细微差异。KLA EFEM系统可配置可见至近紫外线光源和一系列光学接口，如物镜、放大镜、针孔和基准标记，使其能够以精细的分辨率检查直径达25厘米的掩模和晶片。它还包括缺陷识别和缺陷标记功能,能够快速评估和分析缺陷。此外,该单元还包括一个灵活的软件包,可用于执行各种任务,如选择最佳检测亮度、自动聚焦和显示缺陷图像。TENCOR EFEM机器的设计能够降低成本,同时提供高精度。其检查能力通过运用多种技术进一步增强，结合高速光谱仪捕获每一个单独缺陷的大小、形状和位置信息。此外,它还可以配置一个自动化工具,该工具能够进一步处理缺陷数据,以分离错误和实际缺陷,从而实现最有效的生产数据流。EFEM提供模具对模具的检查功能、通用且用户友好的资产以及先进的图像处理功能,这些功能可自动分析缺陷,直至获得最精细的细节。它能够对单晶片和双面晶片进行检查，并且可以配置范围广泛的特殊校准和校准场大小。该模型还能够与其他制造设备（如蚀刻和计量系统）集成,从而实现自动比较和缺陷识别。总体而言,KLA/TENCOR EFEM是一种先进的掩模和晶圆检测设备,旨在以最低的成本和工作量提供高精度结果。它能够检查直径不超过25厘米的各种石英掩模和晶片,并提供一系列内置的自动化功能,以快速分析缺陷。