二手 KLA / TENCOR EFEM #9276751 待售

KLA/TENCOR EFEM （Edge and Film Emission Metrology设备）是一种先进的掩模和晶圆检测解决方桉，旨在精确检测半导体过程中的缺陷。系统使用高级高分辨率成像技术来创建设备蚀刻表面的轮廓,并测量生成的薄膜堆栈的组成。这提供了晶片上传输的光掩模特征和感光材料及特征的模内变化的高精度和粒度测量。KLA EFEM单元将自动化机器的效率与操作人员的精确度结合在一起。它设计用于检测小至20 nm的微缺陷,通常检测率为98%。该工具可用于差异化和非差异化配置。差异化配置允许运算符快速识别模内变化，而无差异化配置允许更准确地表征整个晶片表面的大尺度特征。资产由提供全面过程控制的硬件、软件和附件组成。它包括全局边缘发射（GEM）反射法和薄膜发射（FEM）反射法，两者均采用先进的成像和分析。该模型还包括低kV成像；模式接口（PI）；多光谱成像（MSI）；边缘/薄膜计量（EDFEM）；模式导体计量（PCM）；参数控制（PA）；所有这些都为准确测量基板的物理特性提供了全面的解决方桉。除了目测外，TENCOR EFEM设备还可以提供广泛的过程控制功能。它包括一组支持过程控制设置的嵌入式传感器,允许高精度识别过程均匀性（PU）中的非均匀性以及其他过程变化。系统还提供了完整的模式匹配功能，使用户能够通过调整模式匹配参数来识别和利用非均匀性。EFEM专为可扩展性而设计,无论制造商的规模和复杂性如何,都可以适应制造商的需求。它的通用设计实现了高度的定制,并提供了全面的过程控制,从而大大降低了与掩模制造相关的成本。凭借其先进的成像功能和工艺控制功能,该设备是任何半导体制造商的重要合作伙伴。