二手 KLA / TENCOR es20 #9145312 待售
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ID: 9145312
晶圆大小: 8"
E-beam defect inspection system, 8"
Detection of yield-limiting defect types
Sub- 0.18-micron technologies and copper interconnect processes
Detects sub-design rule particles and patterning defects
Detects defects in very high aspect ratio structures
Detects electrical defects such as voids.
KLA/TENCOR es 20是为满足半导体行业的严格要求而建造的掩模和晶圆检测系统。KLA es 20结合了高级成像、自动化缺陷检测、自动化审查和广泛的工程专业知识,提供了卓越的效果。TENCOR es 20的成像元件在一次扫描中提供了siles的高分辨率图像,减少了扫描时间和样本体积。图像是用5百万像素的VARMITouch数码相机和先进的光学元件拍摄的,包括一组4个光源和一个精密的氙气闪光灯。这样可以确保准确检测、测量和分析siles。es 20的自动缺陷检测组件采用先进的AOI和SEM算法.校准数据允许系统自动检测广泛的缺陷,包括颗粒、点缺陷、线缺陷和分形缺陷。KLA/TENCOR es 20还具有检测低对比度模式的能力,如发现蚀刻成1-2 μ m层厚度的模式。KLA es 20的自动审查组件利用了成像和缺陷检测技术检索到的缺陷数据。TENCOR es 20的AI驱动的图像处理和上下文敏感缺陷分类器集成确保了对芯片和模具的准确自动审查。这减少了人工审核所花费的时间,因此可以更快、更高效地处理样本。es20的工程团队致力于为客户提供全面的支持。他们的专业知识超出了加速晶圆检测的算法范围-团队还提供针对客户网络和技术节点优化的指导,以及量身定制的知识培训,以确保KLA/TENCOR es 20的最大效果。KLA es 20是一种先进的掩模和晶片检测系统,为客户提供了晶片检测的最高精度。其5百万像素数码相机、光源、AOI和SEM算法、自动化审查、工程专业知识和全面支持,确保了结果的优化和可重复。
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