二手 KLA / TENCOR es20xp #293592548 待售
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KLA/TENCOR es20xp是一种高性能的Mask和Wafer检测设备,专为满足当今光学光刻行业严格的Mask和Wafer缺陷检测要求而设计。KLA ES20 XP提供了高效、经济高效、准确的缺陷审查,同时加快了晶圆制造过程并缩短了上市时间。TENCOR ES 20 XP利用独特的三轴扫描系统，准确检测和分析可能导致设备缺陷或屈服的微观缺陷。TENCOR es20xp使用专利的GENII Imaging Unit对掩模或晶圆进行亮场和暗场成像。这种成像机器允许更高的分辨率和提高灵敏度缺陷检测。ES20 XP还提供了许多高级功能,包括可变狭缝大小、可变视场、可变焦点以及最完整的掩码和晶圆缺陷检查的可变对比度。KLA es20xp利用获得专利的自动缺陷分类工具来识别和分类缺陷。缺陷根据大小、形状、位置、方向和组成进行分类。此外，es20xp还可以检测过程桥接、线路桥接和打开缺陷，以便提供设备或晶圆缺陷的最全面视图。ES 20 XP的高吞吐量与其他系统不同,扫描速率高达每秒200条扫描线。此外,KLA/TENCOR ES20 XP非常可靠和准确,在测量掩模或晶片上的临界缺陷尺寸时可重复测量精度高达1.5微米。除了惊人的检查能力外,KLA/TENCOR ES 20 XP还提供了一个用户友好且易于使用的人机界面（HMI）,可完全控制TENCOR ES20 XP操作。用户友好的HMI使用户能够快速轻松地设置资产、查看数据和报告结果。内置的统计分析和报告功能便于对数据进行审查和分析。KLA ES 20 XP为掩模、晶圆检测和缺陷审查提供了先进的生产力解决方桉。高质量、高精度加上检验模型的可靠性,提高了产量,减少了工艺停机时间,从而加快了设备制造商的上市时间。
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