二手 KLA / TENCOR eS30 #9258336 待售

KLA/TENCOR eS30是一种专门的掩模和晶圆检测系统，用于半导体生产过程。eS30mask和晶圆检测系统是一个强大的minifab级解决方桉,旨在提供业界领先的报告能力和产量控制。KLA eS30能够将光学和电气计量系统结合起来,从而能够快速可靠地提供准确的数据。这包括捕获细粒度几何细节的高级成像技术,以及用于识别阵列或缺陷源的高级模式识别功能。TENCOR eS30能够容纳各种基材和口罩，从12英寸方形口罩到25英寸方形晶片。它配备了自动对准技术，确保以尽可能高的精度为大批量生产精确放置掩模或晶片。除了自动扫描功能外,eS30还提供全面的报告功能,以实现最终的可追踪性。这包括详细的缺陷报告,将检测到的缺陷分配给源,并报告到固有故障级别。然后,此可追踪性数据将用于跟踪流程趋势、测量产量指标,以及com［是针对平面数据的铸造指标。此外,KLA/TENCOR eS30允许用户选择特定的缺陷或模式,以"数据管理"模式进行观察或分析。在计量方面，KLA eS30可以测量两种类型的表面结构，无论是平纹结构还是覆盖结构。在高级模式识别功能的补充下,实现了模式信息的精确可视化和分析。这包括检测所有类型的非理想进程,例如3D阵列和非均匀性。TENCOR eS30还提供了用于外围区域缺陷和晶圆清除的成像和分类功能。结合起来,eS30提供了一整套用于检查和验证掩模和晶片层的特性和功能。该系统是改进检测和分析的理想选择,可以全面了解过程和性能。这样可以确保制造和装配以最大的产量平稳高效地运行,从而确保产品的质量和可靠性。