二手 KLA / TENCOR eS31 #191476 待售

製造商
KLA / TENCOR
模型
eS31
ID: 191476
优质的: 2006
Wafer inspection system SMIF Currently installed 2006 vintage.
KLA/TENCOR eS31是一种全自动、高分辨率的检测设备,专门为掩模和晶圆过程中的高级计量和过程控制应用而设计。系统执行一系列关键功能,包括晶片缺陷审查和分类、掩模模式检查和晶片数据分析。该单元为分析人员提供有关过程稳定性、过程一致性、缺陷特征和缺陷分类的详细信息。KLA eS31采用创新的设计来实现高分辨率图像和数据分析-它结合了多种成像和光谱技术来解开晶圆和掩模表面的秘密。集成显微镜机通过其先进的照明、图像采集和分析功能,能够检测和测量纳米级特征,而光谱工具可以量化从原材料到成品的光谱数据。该资产配备了高速自动装载机,允许用户快速安全地装卸晶片和掩码,无需人工干预。TENCOR eS31具有多种检查模式,以适应各种检查要求,包括缺陷特定、区域特定和全表面扫描。该模型还具有先进的模式识别功能,使其能够检测细微的模式缺陷,以及错误识别。ES31提供自动化的数据分析和报告功能。设备可以生成清晰、可行的报告,帮助定义晶圆和掩模过程的稳定性和一致性,并量化缺陷的特征及其潜在的根源。该系统还可用于生成产品质量报告,以记录机器和过程的性能。KLA/TENCOR eS31是监测晶圆和掩模过程的理想工具,以确保它们保持无缺陷和一致性。该设备具有高速、高分辨率的光学和数据分析功能,使其成为晶圆缺陷和掩模模式自动检测和分类的宝贵资产。该机器易于使用、加载速度快以及强大的数据分析和报告功能使KLA eS31完整缺陷检测和过程控制解决方桉的重要组成部分。
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