二手 KLA / TENCOR eS31 #293609359 待售

KLA/TENCOR eS31是一种高度先进的设备,用于掩模和晶片检查,可提供5nm或更高分辨率。它对半导体晶片的感光特性进行非接触、无损检测，以提高产量和控制产量。该系统采用称为"散射测量"的独特技术运行。利用这种技术，从样品表面散射入射光，然后分析检测到的反向散射光。KLA eS31利用激光散射测量剖面（LSP）提供各种表面的地形测量。该单元甚至能够检测最小的特征,如线缘粗糙度、接触孔和拐角半径。其独特的技术还允许确定3 D晶圆水平映射和薄膜厚度测量。TENCOR eS31机能够分析多种材料，如光致抗蚀剂、二氧化硅、氮化硅以及微电子行业常用的其他材料。该工具具有超快的检测时间,非常适合需要快速周转的应用程序。此外,该资产是自动化的,允许用户快速设置和获取数据。机器的软件提供了一个集成的扫描模式，它允许用户同时分析不同大小的多个晶片以及一个自动特征检测算法，该算法存储和跟踪特征尺寸测量，供将来参考。此外,该模型还包括一套流程控制功能,允许用户自定义测量设置、查看和分析统计数据等。ES31提供了广泛的附件和系统,例如光源模块、计量阶段、热成像模块、AuroClean模块、NuFlats设备、SQA模块以及各种介质和过滤器类型。这些附件和系统使KLA/TENCOR eS31能够根据特定的客户要求进行定制,从而确保用户始终获得最高效、最可靠的结果。总体而言，KLA eS31是一个极其先进的系统，专门设计用于便利和改进掩模和晶片检查。它提供5nm或更高分辨率的非接触式、无破坏性检查，能够扫描和分析各种材料。凭借其自动化的单元、集成的扫描模式和可定制的测量设置，TENCOR eS31机是半导体制造商的理想选择。