二手 KLA / TENCOR eS32 #9255738 待售
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已售出
ID: 9255738
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Defect inspection system, 12"
With hybrid port control
Load ports, 8"-12"
Wafer handler:
SMIF, 8"
FOUP, 12"
With insert, 8"
Open cassette, 8"-12"
Standard pixel size:
0.025, 0.035, 0.05, 0.07, 0.10, 0.15, 0.20, and 0.30 pm
Inspection modes:
Array mode (Cell-to-cell)
Random mode (Die-to-die)
Master reference inspection (Die-to-any die)
User Interface
Inspection station
Dual EFEM
Power line conditioner
EBARA ESR80WN Dry pump
Electrical distribution box
2007 vintage.
KLA/TENCOR eS32是一种先进的、经济高效的掩模和晶片检测设备,能够检测生产线上使用的各种掩模和晶片的颗粒和缺陷检测。该系统利用高分辨率光学成像,生成晶圆生产中使用的纳米和微型元件的清晰图像。其独特的侧壁成像能力也提高了检测结果的准确性和速度,如角度缺陷检测。获得专利的Dark Field Bright Field和OmniBeamTM技术进一步拓宽了KLA eS 32的规格,以检测微粒到0.2 µm。该单元具有检测晶片表面颗粒的能力,包括抗渣、金属化、雾霾、电子束抗划痕等。其特殊的暗场明场成像结合了角度相关和角度无关的检查,与传统的暗场检查相比产生更精确的结果。这使机器能够检测到电线断裂或其它角度的缺陷,否则这些缺陷将是不可见的。获得专利的OmniBeamTM和斜角光技术提高了光照强度,进一步提高了检查结果。由于其用户友好的界面和直观的软件,该工具非常容易设置和操作。软件利用预定义的工作流和参数自动检测、分析和分类缺陷,并允许进一步分析和比较。该资产具有存储和比较各种检验结果的能力,能够快速轻松地分析完整的生产线而不会造成任何麻烦。TENCOR ES 32掩模和晶圆检测模型具有在纳秒内进行全局缺陷搜索的能力,是一种快速可靠的解决方桉,可以捕获所有最小缺陷。它的自动化功能允许快速和准确的检查,从而节省成本并实现高效的生产周期。此外,其用户友好的界面和直观的软件界面提供了方便的设置和操作,使设备非常适合快速,精确和成本节约的生产线。
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