二手 KLA / TENCOR eS32 #9308154 待售

KLA/TENCOR eS32是为半导体工业设计的掩模和晶圆检测设备。该系统具有高通量、6西格玛产量、重复性和可靠性。它提供光掩模和晶片的自动光学检查，具有高分辨率和大视场。它有助于改进过程控制,同时保持高精度。KLA eS32单元包含各种各样的检查技术和软件，包括先进的光学、反射成像、光谱学、衍射、X射线成像和计量。该机器能够检查0.2-500 μ米范围内的图样，最小分辨率为0.1 μ米，可对小型复杂结构进行高分辨率成像。该工具还配备了超精确的运动力学，使其能够在各种各样的面具和晶片上快速准确地成像。该资产还具有专门用于光掩码和晶圆模式识别的软件。该软件旨在检测颗粒缺失、沉积不正确和打印不完美等缺陷。该模型能够自动区分各种遮罩层的图样，从而能够以高度的精度检测薄特征。此外，TENCOR ES 32设备能够可视化3D中的缺陷，允许对光掩模和晶片进行详细的检查和诊断。该系统还配备了多项其他先进功能，如自动焦点检测、低对比度原子检测、间距漂移监控和自动对焦堆栈检测。ES 32单元设计为满足高质量要求并提供可靠的结果。它是先进的半导体制造的理想选择,在这种情况下,高产率和低成本是必要的.该机器还设计为易于使用，具有图形用户界面、基于Web的远程支持以及一套高级编程和分析工具。总而言之，KLA ES 32 Mask和Wafer Inspection Tool是先进检测技术和用户友好界面的完美结合，为先进半导体制造提供了理想的解决方桉。