二手 KLA / TENCOR eS32 #9354570 待售

KLA/TENCOR eS32是一种掩模和晶片检验设备，利用先进的光学检验和计量技术检测半导体制造过程中使用的晶片和薄膜掩模上的缺陷。其光束特性为最大分辨率和精度量身定制，高速采集电子设备可实现对象的快速成像。KLA eS32能够检测k1/k2级的缺陷，并能暴露出高密度的掩模模式缺陷。它还可以测量遮罩特征尺寸、层厚度和相交角度。利用扫描电子显微镜可以对晶圆和薄膜掩模特性进行高分辨率成像，从而便于识别。其先进的系统体系结构旨在提供持续的检查，并在广泛的晶圆和薄膜掩模直径范围内提供高吞吐量。KLA专有的电源控制器旨在提供高度一致的蒸发速率。这使得即使是最具挑战性的应用程序也能获得可重复的结果。TENCOR ES 32还为X射线检查提供高能和低能选项。它的高能单元选项是由两个微焦点X射线源启用的，它提供了晶圆存在和掩模层特征之间的良好对比。配备1.2mV X射线源的低能耗机器选项检查晶圆图样特征中的微妙缺陷。该工具的快速、简单的控制界面使操作员能够根据特定的生产要求自定义处理参数。为了进一步改进过程控制，eS32的过程匹配软件优化了检查过程的每个阶段的参数。这使得对面膜层的精确和完整的检查具有很高的准确性。TENCOR eS32的最佳校准系统旨在提供完整的计量数据，从而提高速度和精度。直观的控制界面允许高效的操作和全面的数据收集,以便快速进行分析和报告。总体而言，KLA/TENCOR ES 32是一种高度先进和可靠的掩模和晶圆检测资产，提供无与伦比的准确性和细节。它具有高分辨率的光学和计量功能,可以精确识别晶片和薄膜面膜上的缺陷,加快工艺速度并确保产品质量的高水平。