二手 KLA / TENCOR ES35D #9236716 待售

KLA/TENCOR ES35D Mask&Wafer Inspection设备提供先进和自动化的光学检查技术,以满足半导体行业严格的工艺控制要求。它是一个自动检查系统，旨在利用先进的检查技术检测晶片和掩模上的各种缺陷。KLA ES35D单元利用多种先进和自动化的光学检测技术来实现卓越的精度和速度。这些技术包括自动化聚焦和成像过程以及先进的缺陷分类算法。该机采用定制设计的光学系统和专用软件进行高效、准确的缺陷识别和分析。TENCOR ES35D工具能够检测广泛的缺陷,包括但不限于粒子相关缺陷、表面缺陷和空隙。此外,该资产还能够对掩模和晶片进行检查。该模型利用先进的晶圆映射设备读取和分析晶圆表面上蚀刻的标线，并确定可能缺陷的位置。ES35D面膜和晶片检查系统设计为在检查过程中提供卓越的吞吐量。利用先进的聚焦和成像算法，设备能够在不同区域之间快速移动，以实现最佳的覆盖范围。此外,自动化的机器命令允许检查过程完全自动化,从而提高了生产率并节省了成本。KLA/TENCOR ES35D工具还具有通用的用户界面,设计方便直观的操作。用户界面设计为易于使用和理解,为用户提供了访问资产特性和功能的直观方式。此外,该模型能够执行动态比较功能,允许用户快速比较多组图像并确定数据的变化。此功能可用于随时间推移轻松检测产品质量差异。总之，KLA ES35D Mask&Wafer检测设备是针对特定的Mask&Wafer环境优化的一种功能强大、可靠的自动光学检测解决方桉。该系统利用复杂的算法和自动光学检查技术,提供了先进高效的缺陷检测和分析功能,同时提供了直观的用户界面,便于操作。