二手 KLA / TENCOR EV300 #9088175 待售

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製造商
KLA / TENCOR
模型
EV300
ID: 9088175
Scanning Electron Microscope (SEM), 6"-12" Fully automated Designed specifically for high-volume review and analysis in a manufacturing environment Integrated automatic defect classification (ADC) capabilities Flexible tilt/rotation Voltage contrast review High aspect ratio interconnect (HARI) imaging Landing energy up to 19 keV: enables unambiguous material identification Engineering analysis applications for 0.13 micron and smaller design rules Unpatterned and patterned wafer inspection system Klarity Defect automated analysis and defect data management system: analysis, defect control, and excursion monitoring.
KLA/TENCOR EV300是一种用于识别金属化缺陷的高精度掩模和晶圆检测设备。它结合了先进的光学技术,包括亮场和暗场成像,以及获得专利的多角散射成像技术,来检测和表征关键缺陷。KLA EV 300的扫描范围高达300 mm,可以捕获各种缺陷类型,包括预金属和金属层的光掩模。该系统由一台广域高分辨率红外相机组成,提供了对整个晶片的快速准确的概述,以及几台光学探测器,给出了存在缺陷的详细图像。它的高扫描分辨率,高达10µm,允许检测细小颗粒,如蚀刻或氧化物层的颗粒,以及有效区分不同大小和形状的颗粒。设备的扫描速度可达到5 Hz,可确保快速处理时间。TENCOR EV-300可用于检查接触垫的形状、大小和位置、通孔和线条以及垫的拐角和边缘的缺陷。它还可用于识别沉积物中过量的氧化、污染以及划痕或地形变化。该机器具有多种集成的自动图像分析功能,大大减少了手动检查和解释的需要。TENCOR EV300带有直观的用户界面,易于操作且用户友好。它与所有主要的晶圆厂流程兼容,允许轻松集成和快速启动。该工具还支持用于流程前和流程后分析和报告的各种IT工具。通过使用尖端技术,TENCOR EV 300可以帮助制造商快速识别和定位化学标记颗粒,这对于先进光刻的成功至关重要。总而言之,KLA/TENCOR EV 300是一种先进的掩模和晶圆检测资产,它彻底改变了缺陷分析的执行方式。KLA EV300具有高分辨率、自动化图像分析功能和用户友好的界面,是识别金属化关键缺陷的理想选择。
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